XPS – Röntgen-Photoelektronen- Spektroskopie

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Röntgen-Photoelektronen- Spektroskopie

Chemische Analyse von Oberflächenbelegungen ( Informationstiefe der Messung ca.10 nm ) dünnen Schichten (  <0.5 µm ) mittels Tiefenprofil

UntersuchungsmethodeRöntgen-Photoelektronen-Spektroskopie
KurzzeichenXPS
Gerätetyp und AusrüstungSSI M-Probe
FunktionsprinzipMessung der elementspezifischen Energie von Photo-Elektronen, die mittels Röntgenstrahlung aus der Oberfläche der Probe herausgeschlagen wurden. Teilweise sind auch Bindungsvarianten unterscheidbar.
Typische AnwendungenChemische Analyse von Oberflächenbelegungen ( Informationstiefe der Messung ca.10 nm ) dünnen Schichten ( < 0.5 µm ) mittels Tiefenprofil
Nachweisgrenze 
Anforderungen an ProbeMessfläche >1 mm²;
max. Probengrösse :
20 x 20 x 5 mm
Akkreditierung / ZertifizierungISO17025

Beispielanwendungen für Röntgen-Photoelektronen- Spektroskopie

XPS für Pharma und Chemie

 

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XPS für Aluminium Oberflächen

Verunreinigungen auf der Oberfläche sind der häufigste Grund für Fehlerbilder auf anodisierten Oberflächen. Mit einer XPS Analyse lassen sich die Verunreinigungen charakterisieren.

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XPS für technische Sicherheit

 

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Eine Übersicht weiterer Methoden aus dem Bereich chemische Analytik finden Sie in unserem Lexikon – chemische Analytik und aus dem Bereich Materialographie und Metallographie finden Sie in unserem Lexikon – Materialographie

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Rolf Winkler

Dipl. Maschinenbauer und Experte für Schadensanalysen


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